FIB电镜制样机构常用指南「九鼎」

电子发射的电子束

扫描电镜的光学原理

电子发射的电子束被几个电磁透镜还原后，电子束到达样品并激发样品中的二次电子。探测器接收二次电子，通过信号处理调制显示器上的像素发光。由于电子束点的直径为纳米，显示器的像素超过100微米，因此这个像素在100微米以上发出的光代表样品上被电子束激发的区域发出的光。实现样品上该物点的放大。如果在样品的某个区域对电子束进行光栅扫描，并在时间和空间上对显示器像素的亮度进行相应的调制，就可以实现该样品区域微观形貌的放大成像。

扫描电子显微镜SEM参数

扫描电子显微镜SEM 基本参数

放大率：通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。如果需要更高的放大率，只需要扫描更小的一块面积就可以了。放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到

场深：扫描电子显微镜SEM中，位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象。这一小层的厚度称为场深，通常为几纳米厚，所以，SEM可以用于纳米级样品的三维成像。

工作距离：工作距离指从物镜到样品高点的垂直距离。

如果增加工作距离，可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深。

如果减少工作距离，则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。

通常使用的工作距离在5毫米到10毫米之间

扫描电子显微镜是一种利用高能聚焦电子束扫描样品表面

扫描电子显微镜是一种利用高能聚焦电子束扫描样品表面，从而获得样品信息的电子显微镜。所以其使用电子束为照明源，电子束在样品表面扫描，利用电子和物质作用所产生的信息结合电子光学原理进行成像。判断扫描电镜性能主要依据分辨率和有效放大倍数。分辨率即能够分辨的小距离。

电子光学系统主要是给扫描电镜提供一定能量可控的并且有足够强度的、束斑大小可调节的、扫描范围可根据需要选择的、形状对称的、稳定的电子束[1]。主要由4 部分组成：电子、电磁透镜、物镜光阑、扫描线圈。